华力集成申请通过曝光有源区监控掩模版工件台运动状态专利可对掩模版工件台运动状态进行实时有效监控

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　　国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“通过曝光有源区监控掩模版工件台运动状态的方法”的专利，公开号CN121276898A，申请日期为2025年11月。

　　专利摘要显示，本申请提供一种通过曝光有源区监控掩模版工件台运动状态的方法，包括：步骤一，提供晶圆，对晶圆进行有源区曝光，针对该曝光的焦距能量矩阵测试的中心能量/焦距为相应工艺平台下对有源区不进行任何套准误差补偿的最佳能量/焦距；步骤二，根据焦距能量矩阵测试的不同曝光能量值所产生的掩模版工件台在运动过程中绕Z轴旋转量的标准偏差确定是否触发故障检测与分类系统工作；步骤三，故障检测与分类系统启动工作后，对掩模版工件台进行检查。根据本申请，可以对掩模版工件台运动状态进行实时有效监控。

　　天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2093次，专利信息2655条，此外企业还拥有行政许可397个。

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